等離子體是氣體分子在真空、放電等特殊場合下產(chǎn)生的物質(zhì)。等離子清洗/刻蝕產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個電極形成電磁場，用真空泵實現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體越來越稀薄，分子間距及分子或離子的自由運動距離也越來越長，受磁場作用，發(fā)生碰撞而形成等離子體，同時會發(fā)生輝光。等離子體在電磁場內(nèi)空間運動，并轟擊被處理物體表面，從而達(dá)到表面處理、清洗和刻蝕的效果。

　　等離子清洗機處理工藝可以實現(xiàn)有選擇的表面改性：

　　●活化：大幅提高表面的潤濕性能，形成活性的表面

　　●清洗：去除灰塵和油污，精細(xì)清洗和去靜電

　　●涂層：通過表面涂層處理提供功能性的表面

　　●提高表面的附著能力

　　●提高表面粘接的可靠性和持久性

　　等離子清洗機的應(yīng)用起源于20世紀(jì)初，隨著高科技產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，其應(yīng)用越來越廣，目前已在眾多高科技領(lǐng)域中，居于關(guān)鍵技術(shù)的地位，等離子清洗技術(shù)對產(chǎn)業(yè)經(jīng)濟(jì)和人類文明影響大，*電子資訊工業(yè)，尤其是半導(dǎo)體業(yè)與光電工業(yè)。

　　等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，通常物質(zhì)以固態(tài)、業(yè)態(tài)、氣態(tài)3種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下可以以第四中狀態(tài)存在，如太陽表面的物質(zhì)和地球大氣中電離層中的物質(zhì)。這類物質(zhì)所處的狀態(tài)稱為等離子體狀態(tài)，又稱位物質(zhì)的第四態(tài)。等離子體中存在下列物質(zhì)。處于高速運動狀態(tài)的電子；處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(tuán)（自由基）；離子化的原子、分子；分子解離反應(yīng)過程中生成的紫外線；未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。